이용료 안내
No. | 공정 | 장비명 | Maker | 공정 이용료(원) | 비고 |
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1 | E-beam lithography | EBPG5150 Plus | RAITH | 450,000/hr + 50,000/wafer | |
2 | Contact mask aligner | MDA-400S | MIDAS | 100,000/기본료 + 40,000/wafer | |
3 | Sputter | 22KV6025 | Korea Vacuum Tech. | 100,000/기본료 + 50,000/wafer | |
4 | E-beam deposition | 21KVS006 | Korea Vacuum Tech. | 140,000/회 + 재료비(Au) | 양자팹의 산정기준에 따라 재료비 요금 부과 |
5 | Vacuum annealing furnace | WEBB189 | R.D. WEBB Company | 200,000/회 | 최대 1400도, 4시간 |
※ 6개월 주기로 업데이트 됨.